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用于消光劑的二氧化硅合成方法

用于消光劑的二氧化硅合成方法主要有三種:氣相法;沉淀法;凝膠法。

一、氣相法二氧化硅消光劑

氣相二氧化硅是由硅的鹵化物在氫氧火焰中高溫水解、燃燒過程中形成的二氧化硅原生粒子互相碰撞形成二次粒子并成鏈而生成的表面帶有羥基和吸附水的超微粉末,具有比表面積大、化學(xué)純度高、分散性好等特點(diǎn)。常見的氣相二氧化硅制備方法有兩種,其反應(yīng)原理如下方程式所示:

SiCl4+2H2+O2__燃燒__Si02+H2O+4HCI

CH3SiCl3+2H2+302___燃燒__Si02+3HCI+CO2+2H2O

二、沉淀法二氧化硅消光劑

沉淀法二氧化硅是由硅酸鈉與酸反應(yīng)生成,反應(yīng)后的沉淀水合物經(jīng)過洗滌、壓濾、干燥等過程后形成產(chǎn)品。沉淀法二氧化硅具有吸油值高、工藝條件簡單、成本較低的優(yōu)點(diǎn),但是存在比表面積小、孔容小、孔徑分布寬的問題。

三、凝膠法二氧化硅消光劑

二氧化硅氣凝膠的制備原理與沉淀法二氧化硅相似,其制備過程通常包含溶膠-凝膠和干燥兩個過程,在溶膠-凝膠過程中前驅(qū)體(硅醇鹽、水玻璃等)通過水解與縮聚反應(yīng)生成具有微細(xì)多孔網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)的凝膠,然后通過合適的干燥工藝(超臨界、冷凍、常壓)可以在保持凝膠原有結(jié)構(gòu)的前提下取出內(nèi)部大量液體,從而制得二氧化硅氣凝膠。該產(chǎn)品具有比表面積大、孔容大、粒徑分布窄等優(yōu)點(diǎn),但其吸油值偏低,制備工藝相對復(fù)雜,且制備成本較高。

目前國內(nèi)二氧化硅消光劑市場需求處于逐年上升的趨勢,但國內(nèi)產(chǎn)品主要集中在中低端領(lǐng)域。國內(nèi)高端領(lǐng)域產(chǎn)品雖然在孔容、吸油值、平均粒徑等指標(biāo)上已經(jīng)達(dá)到國際高端水平,但在微孔結(jié)構(gòu)控制上還存在明顯差距,存在粒徑分布較寬、表面改性技術(shù)差距較大、產(chǎn)品穩(wěn)定性較低等問題,二氧化硅消光劑高端產(chǎn)品仍處于依賴國外進(jìn)口的困境。


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